Электронная техника Серия 3 №1 [2020]

Читать в этом номере: 

• Атомно-слоевое осаждение тонких пленок диоксида кремния для микро- и наноэлектроники. Процессы с азотсодержащими предшественниками.
• Моделирование топологической неравномерности слоев, осаждаемых из газовой фазы на микрорельефную подложку.
• Концентрация напряжений в мезопористых структурах на основе кремния с адсорбированной водой в интервале температур 233-273 К.
• Электромагнитный анализ криптографических микросхем.
• Проблема выпуска качественных микросхем для отечественной микроэлектроники.